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日本NISSHIN日新氮化硅支撑膜 SN35

日本NISSHIN日新氮化硅支撑膜 SN35

日本NISSHIN日新氮化硅支撑膜 SN35

货号: SN35

库存: 0

品牌: 日本NISSHIN日新

¥0.00

简介

使用最新的半导体和 MEMS 技术为纳米技术分子生物学研究开发的支撑膜。です。・它的质量非常高，因为它是在洁净室中以优质材料和可靠技术制造的。です。・将厚度为 8、15、35、50、200 nm 的薄膜贴在直径为 3 mm 的硅框架（4 种类型的孔窗）上的孔上。種類)・圆形框架使其…

分类: 其他, 日本NISSHIN日新,

产品详情

使用最新的半导体和 MEMS 技术为纳米技术分子生物学研究开发的支撑膜。です。

・它的质量非常高，因为它是在洁净室中以优质材料和可靠技术制造的。です。

・将厚度为 8、15、35、50、200 nm 的薄膜贴在直径为 3 mm 的硅框架（4 种类型的孔窗）上的孔上。種類)

・圆形框架使其易于握持且不会损坏 TEM 支架。ん。

・它具有优异的化学和机械性能，可承受高达 1000 度的温度。れます。

・它可以在很宽的温度范围内对动态反应进行原位观察，使其适用于细颗粒和细胞的纳米技术实验。す。

货号	窗口大小
■薄膜厚度 8 nm，框架厚度 200 μm
SN8	0.5x0.5mm 窗口上的 60x60μm 孔径 (25)
■薄膜厚度 15 nm，框架厚度 200 μm
SN15-1	0.25x0.25mm 窗口
SN15-3	0.1x0.1mm x 9 窗口
■薄膜厚度 35 nm，框架厚度 200 μm
SN35	0.5x0.5mm 窗口上的 70x70μm 孔径 (25)
■薄膜厚度 50 nm，框架厚度 200 μm
SN50-1	0.25x0.25mm 窗口
SN50-2	0.5x0.5mm 窗口
SN50-3	0.75x0.75mm 窗口
SN50-4	1.0x1.0mm 窗口
SN50-5	0.5x1.5mm 窗口
SN50-6	0.1x1.5mm x 2 窗口
SN50-7	0.1x0.1mm x 9 窗口
■薄膜厚度 200 nm，框架厚度 200 μm
SN200-1	0.25x0.25mm 窗口
SN200-2	0.5x0.5mm 窗口
SN200-3	0.75x0.75mm 窗口
SN200-4	1.0x1.0mm 窗口
SN200-5	0.5x1.5mm 窗口
SN200-6	0.1x1.5mm x 2 窗口
SN200-7	0.1x0.1mm x 9 窗口
■薄膜厚度 50 nm，框架厚度 50 μm
SN50-501	0.25x0.25mm 窗口
SN50-502	0.1x1.5mm x 2 窗口
SN50-503	0.1x0.1mm x 9 窗口
■10 种设置所有框架厚度 200 μm 各 1 个入り）
SN-10	见下文

・10种设定内容

膜厚	内容
15纳米	0.25x0.25mm 窗口
15纳米	0.25x0.25mm 窗口
50纳米	0.25x0.25mm 窗口
50纳米	0.1x0.1mm x 9 窗口
50纳米	0.5x0.5mm 窗口
50纳米	0.75x0.75mm 窗口
200纳米	0.25x0.25mm 窗口
200纳米	0.5x0.5mm 窗口
40纳米	二氧化硅支撑膜 0.5x0.5mm 窗口
200纳米	φ2.5 μm 多孔氮化硅支撑膜 0.5x0.5mm 窗口

日本NISSHIN日新氮化硅支撑膜 SN50-1
¥0.00

日本NISSHIN日新氮化硅支撑膜 SN50-1

日本NISSHIN日新氮化硅支撑膜 SN15-3
¥0.00

日本NISSHIN日新氮化硅支撑膜 SN15-3

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