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FUJISTAR三共理化 镜面薄膜 CC

FUJISTAR三共理化 镜面薄膜 CC

货号: CC
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简介

镜面薄膜通过将超细颗粒磨料涂覆在薄膜基材上,采用静电涂层工艺,使其具有高精度、优越的磨料性和耐用性,是织物或纸制品无法达到的。此外,薄膜磨料利用其薄、均匀且坚韧的特性,避免了因堵塞而进行修整的必要。在超光处理中,新的抛光表面会以恒定速度持续供应,从而实…

产品详情

镜面薄膜通过
将超细颗粒磨料涂覆在薄膜基材上,采用静电涂层工艺,使其具有高精度、优越的磨料
性和耐用性,是织物或纸制品无法达到的。


此外,薄膜磨料利用其薄、均匀且坚韧的特性,避免了因
堵塞而进行修整的必要。


在超光处理中,新的抛光表面会以恒定速度持续供应,从而实现稳定的加工,避免
表面粗糙不平。


应用(按形状):
辊筒:曲轴、凸轮轴、平面显示屏、磁头和盘
片;盘片:塑料透镜、光纤端子, 分析样品块、磁头盘、涂层抛光
板......光纤端子、分析样品块

防止混淆,VAF的颜色会根据颗粒大小有所不同。
磨料颗粒类型:WA(白氧化铝)、CC(碳化硅)、D(钻石) 基
材:75μ = 3 mil,100 μm = 4 mil,125 μm = 5 mil

FUJISTAR三共理化 镜面薄膜 D
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FUJISTAR三共理化 镜面薄膜 D
FUJISTAR三共理化 镜面薄膜 WA
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FUJISTAR三共理化 镜面薄膜 WA