YOKOHAMARIKA横滨理化 消泡灌 MF500  

有效去除半导体制造工艺中使用的化学品和溶剂中的气泡和溶解气体。

化学溶液中所含的气泡和溶解气体，如光刻胶、显影剂、洗液、刻液、去除液、清洗液、抗铁刻较制商液等。

通过去除它，司以预期产品质量稳定性和产量提高等效果。通过有效去除控制化学品和溶剂的浓度和体积所不可或缺的气泡和溶解气体，实现精确的化学控制，

产品概述：

有效去除半导体制造工艺中使用的化学品和溶剂中的气泡和溶解气体。化学溶液中所含的气泡和溶解气体，如光刻胶、是影剂、漂洗液、刻液、去除液、清洗液、抗刻放剥画液等。通过去除它，可以预明产品质量稳定性和产量提高等效果。通过有效去除控制化学品和溶剂的浓度和体积所不可或缺的气泡和溶解气体，实现精确的化学控制，环保目成本低。

·去除半导体制造领域存在的气泡，稳定质量，提高产量，防止麻烦。·有效去除干扰化学品和溶剂浓度和液体体积管理的气泡和溶解气体

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