江崎推荐HORIBA堀场 PD10-EX

HORIBA堀场 PD10-EX

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简介

一台机器实现颗粒检测与去除，提升半导体制造工艺的效率和良率自1984年推出以来，PD系列粒子检测系统作为半导体光刻工艺不可或缺的系统，持续不断发展以满足客户需求，今年迎来其成立40周年。新产品“PD10-EX”基于流行的传统型号“PD10”，配备颗粒去除功能，使得一台设…

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产品详情

一台机器实现颗粒检测与去除，提升半导体制造工艺的效率和良率

自1984年推出以来，PD系列粒子检测系统作为半导体光刻工艺不可或缺的系统，持续不断发展以满足客户需求，今年迎来其成立40周年。
新产品“PD10-EX”基于流行的传统型号“PD10”，配备颗粒去除功能，使得一台设备即可完成检测和清除。
此外，我们开发了支持自动光罩/掩膜传输的内部设备，促进了半导体制造工艺的效率和更高的良率。
半导体行业的分析、测量和控制需求正以前所未有的速度变化，变得更加复杂和多样化。我们正在扩展PD10-EX的功能，使其能够进行颗粒成分的一站式分析和薄膜测量※1胶片厚度，我们将继续在未来呈现新的可能性。